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光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响

日期:2023-03-18 12:16:39     浏览:2    
核心提示:盆景灵芝子实体生长发育如表2所示。4个处理的灵芝从下地后7~8d开始见到原基生长,T0处理的出原基时间较其他处理晚1d,可见,遮阳处理能促使灵芝提早长出原基
 结果分析
 
2.1光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响
 
盆景灵芝子实体生长发育如表2所示。4个处理的灵芝从下地后7~8d开始见到原基生长,T0处理的出原基时间较其他处理晚1d,可见,遮阳处理能促使灵芝提早长出原基。从原基期到菌柄形成期,T2处理的原基个数最多,达140.58个;T0处理最少,仅113.50个;遮阳处理间原基个数差异不显著(P>0.05)。

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响

菌盖生长阶段(图2),T0处理的子实体生长较差,生长不整齐,菌盖形状呈畸形、不规则,菌盖表面颜色较淡,没有光泽,同时易滋生虫害;而遮阳处理(T1、T2、T3处理)的子实体均能正常生长成朵形,其中,T1处理菌盖分化整齐度一般,菌盖表面呈黄色,光泽度较好;T2处理菌盖分化整齐度较好,菌盖表面金黄色,颜色鲜亮,光泽度好;T3处理菌盖分化整齐度较差,菌盖边缘白色明显,中间呈暗褐色和红色,光泽度一般。由此可见,光照强度不仅对原基形成时间、原基个数有影响,还对菌盖形状、颜色、光泽度有较大影响,总体来看,70%遮阳率最有利于盆景灵芝生长发育。
 
2.2光照强度对盆景灵芝子实体农艺性状和产量的影响
 
在盆景灵芝子实体成熟阶段对灵芝菌盖直径、菌盖厚度、菌柄长度和第一潮子实体干产量进行测量,结果(表3)表明,T2处理的菌盖直径、菌盖厚度、菌柄长度和产量均表现最好;T1处理次之;而T0处理表现最差;不同处理间均存在显著差异(P<0.05)。由此表明,当阳光直晒时,盆景灵芝的菌盖小、薄,菌柄短,产量低;当遮阳率为50%时,菌盖的直径和厚度及菌柄长度、产量显著增加;当遮阳率达到70%时,菌盖的直径和厚度及菌柄、产量表现最优;然而继续增加遮阳率,当遮阳率达到90%时,菌盖的直径和厚度及菌柄长度、产量则显著降低。可见,盆景灵芝的生长期需要适宜的遮阳率,以70%遮阳率对灵芝的生长效果最佳。
 
2.3光照强度对盆景灵芝不同生长期子实体内活性成分含量的影响
 
由表4可知,不同处理盆景灵芝子实体在原基期、菌柄期、菌盖期、成熟期多糖和三萜含量的变化趋势相同,都表现为在原基期含量最低,然后逐渐升高,在成熟期达到峰值;而可溶性蛋白含量在原基期最低,然后逐渐升高,在菌盖期达到峰值,至成熟期又逐渐下降。多糖含量在灵芝生长的4个时期中均表现为遮阳处理显著高于T0处理;在遮阳处理中,在原基期和菌柄期,不同处理间多糖含量差异不显著,而在菌盖期和成熟期,T2处理显著高于T1处理,与T3处理差异不显著,可见,阳光直晒会降低灵芝子实体中的多糖含量,一定程度的遮阳有利于提高子实体多糖含量。

4个处理灵芝子实体的三萜含量均在原基期最低,成熟期最高;在原基期,T2含量最高,T0处理次之,T3处理最低;在菌柄期,T1处理最高,T2处理次之,T3处理最低;在菌盖期和成熟期,T2处理最高,T1处理次之,T3处理最低,可见,遮光率为90%时,灵芝子实体三萜含量较低,不利于子实体内三萜的合成,遮光率在0%~70%时,光照对灵芝子实体内三萜含量的影响较小。4个处理灵芝子实体内的可溶性蛋白含量均在原基期最低,菌盖期最高;且4个时期均表现为T0处理最高,T1处理次之,T3处理最低,可见,阳光直晒能提高灵芝子实体内可溶性蛋白含量,随着遮阳率的增加,子实体内可溶性蛋白含量逐渐降低。
 
2.4光照强度对灵芝不同生长时期体内木质素酶活性的影响
 
锰过氧化物酶和漆酶是灵芝生长发育过程中2种重要的木质素降解酶,其活性高低对灵芝木质素的降解能力和灵芝品质具有重要影响。由图3可知,光照强度对灵芝不同生长时期体内锰过氧化物酶、漆酶活性有显著影响。锰过氧化物酶在原基期活性最高,然后缓慢降低,到菌盖期其活性出现急剧下降,成熟期时其活性相对平稳;而漆酶在原基期活性最低,然后急剧升高,在菌盖期活性最高,成熟期时其活性又显著降低。

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响

不同处理间进行比较(图3),T0处理的锰过氧化物酶、漆酶活性均显著低于遮阳处理;T2处理的锰过氧化物酶、漆酶活性最高,显著高于其他处理。4个时期盆景灵芝子实体的锰过氧化物酶、漆酶活性均表现为T2>T1>T3>T0。可见,阳光直晒和高遮阳率都会降低子实体内锰过氧化物酶和漆酶活性,而适度遮阳有利于锰过氧化物酶和漆酶活性的提高,以70%遮阳率为宜。
 
2.5光照强度对盆景灵芝不同生长期体内抗氧化酶活性的影响

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响
 
超氧化物歧化酶(SOD)、过氧化氢酶(CAT)、过氧化物酶(POD)是植物抵御外界伤害的重要抗氧化酶,能够维持体内的活性氧代谢平衡。2.5.1SOD活性变化如图4所示,盆景灵芝在4个时期均表现为T2处理的SOD活性最高,T3处理最低。灵芝从原基期到成熟期,4个处理的SOD活性均表现为先上升后降低,其中,T0处理的增幅最大,T3处理次之,T2处理最小。

在原基期,T2和T1处理的SOD活性显著高于T0和T3处理,T3又显著低于T0处理。在菌柄期和菌盖期,T2处理的SOD活性显著高于其他处理,较T0处理分别显著增加23.94%和32.52%。可见,强光和弱光均对盆景灵芝细胞产生了胁迫,使其体内积累了大量的自由基,而70%遮阳率在一定程度上缓解或解除了逆境胁迫,有利于盆景灵芝生长。另外,盆景灵芝处在成熟期时,体内SOD活性均呈降低趋势,这可能是由于盆景灵芝成熟后,体内细胞呼吸作用逐渐减弱,逆境胁迫对其造成的影响逐渐变小,从而导致体内SOD活性逐渐降低。2.5.2CAT活性变化过氧化氢酶(CAT)可将H2O2分解为O2和H2O,是一种重要的抗氧化酶。

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响

如图5所示,随着灵芝的生长发育,体内CAT活性逐渐升高,在菌柄期达到峰值,然后急剧下降,到成熟期降至最低。不同处理间进行比较发现,在整个生长周期内T2处理的CAT活性均最高,显著高于其他处理,T3处理的CAT活性最低;且T2处理CAT活性在不同时期间的变幅也较大。

在原基期、菌柄期、菌盖期和成熟期,T2处理CAT活性较T3处理分别显著提高68.41的、69.56%、62.50%和50.00%。可见,适度遮阳有利于提高盆景灵芝的变化趋势与SOD、CAT不同,在原基期,POD活性较低;到菌柄期逐渐下降;而到菌盖期则急剧上升;之后至到成熟期又呈下降趋势。在原基期、菌盖期和成熟期均表现为T2处理的POD活性最高,显著高于其他处理;T0处理最低。在菌柄期,T2处理的POD活性最高,与T1处理差异不显著,但显著高于T0和T3处理;T3处理最低。可见,遮光处理对盆景灵芝体内POD活性有较大影响。
 
2.6光照强度对灵芝不同生长时期体内MDA含量的影响

光照强度对盆景灵芝子实体生长发育的影响
 
由图7可知,在盆景灵芝整个生长发育过程中,其体内MDA含量呈上升趋势,在原基期最低,成熟期最高。从原基期到菌盖期,灵芝体内MDA含量表现为T3>T0>T1>T2,且处理间均存在显著差异;在成熟期,灵芝体内MDA含量表现为T0>T3>T1>T2,且T0和T3处理显著高于T1和T2处理。
 
在原基期,T3处理的MDA含量最高,T2处理最低,可见,在原基期时盆景灵芝需要较多的光照,过度遮阴对灵芝生长影响较大。综上所述,过度遮阴和过度直晒都严重影响灵芝的生长发育,只有适度遮阴才能减缓光照强度对细胞膜的损伤,促进灵芝生长发育。
 
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